Antirefleksfilm, også kjent som antirefleksfilm, brukes hovedsakelig til å redusere det reflekterte lyset på overflaten av materialet og øke det overførte lyset. Det er en beleggfilm med et bredt spekter av applikasjoner og har vært mye brukt i dagliglivet, elektronikk, industri, astronomi, militær. Og andre felt. Den tradisjonelle rengjøringsmetoden er å bruke overflateaktive rengjøring, som ikke bare forverrer miljøforurensning, men må også gjentas, noe som krever mye arbeidskraft, økonomiske ressurser og materielle ressurser. Derfor har forskning og utvikling av selvrensende antirefleksfilmer de siste årene hatt stor oppmerksomhet, og forberedelse av antirefleksfilmer med selvrensende egenskaper og høy effektivitet har blitt en etterspørsel etter teknologisk utvikling.
Introduksjon til prinsippet. (1) Antirefleksprinsippet, for å redusere det reflekterte lyset og øke det overførte lyset, kan et filmlag med en passende tykkelse og brytningsindeks bli plettet på overflaten av substratet, og antirefleksjonseffekten er hovedsakelig oppnådd ved destruktive forstyrrelser, hovedsakelig ved bruk av en film. Den resulterende interferenseffekten eliminerer reflektert lys og øker transmittansen av lys. (2) Selvrensende prinsipp, når det gjelder hydrofilitet, har kontaktvinkelen til vanndråpene på overflaten av materialet en tendens til null. Når vannet kommer i kontakt med materialet, sprer det seg raskt på overflaten for å danne en jevn vannfilm, som kan fjernes ved tyngdekraften av vannfilmen. Staining, for å oppnå selvrensende effekt; Når det gjelder hydrofobicitet, er prinsippet basert på Lotus-effekten. Den selvrensende effekten av lotusbladet er den fine strukturen som består av luftlaget, brystvorten og vokslaget på overflaten. Den grove fine strukturen kan øke kontaktvinkelen til vanndråpene på overflaten av materialet, slik at vanndråpene ruller lett av og vanndråpene vil ta bort støv og forurensninger når de ruller på overflaten av materialet, og derved oppnå selv- rengjøringseffekt.
Et vanlig materiale for selvrensende antirefleksfilmer. (1) Titandioksid brukes mye som materiale for selvrensende antirefleksfilm på grunn av fotokatalytisk, foto-super-hydrofil og lav kostnad, spesielt utvikling av nanoskala pulver og filmer, slik at påføringen av Ti02 har blitt oppnådd. Forfremmelse. På grunn av den store størrelsen av TiO2-filmen er brytningsindeksen imidlertid relativt høy, generelt mellom 2,2 og 2,7, noe som øker reflektiviteten av den transparente substratoverflaten. Derfor bruker vitenskapelige forskere forskjellige prosesser for å redusere brytningsindeksen til TiO2-filmen. I året brukte Wang Jianwu og andre sol-gel-metoden for å lage SiO2 / TiO2 dobbeltlags antirefleksfilm, som har en høy transmittans i det synlige lysområdet på 97,2%, og kontaktvinkelen til filmen etter UV-stråling er nær 0 °. Har en god selvrensende eiendom. (2) Silica, som har utmerkede egenskaper som lav brytningsindeks (brytningsindeks på ca. 1,3), billige elektriske egenskaper, høy kjemisk stabilitet, syre og alkalisk korrosjonsbestandighet, er for tiden mye undersøkt, og brukes også mye til reversering . En av membranene. I dag utforsker og forsker mange forskere SiO2-refleksjonsfilm med "blad-effekt". Wei-Lun Min et al. har utarbeidet bestilt mikro-konvekse silisium-sekskant-partikkelarraystruktur ved spinbelegg og etsning. Det forbedrer transmittansen av synlig lys på overflaten av materialet, og styrer kontaktvinkelen ved å styre etsetiden for å gjøre det selvrensende.
Forskningsframgang i selvrensende antirefleksfilm. I forskningsprosjektet for selvrensende antirefleksfilm har mange høykvalitets vitenskapelige forskere gjort fremragende bidrag og gjort visse prestasjoner. I 2013 brukte litteraturen laminateknologi (LBL) til å forberede en anti-refleksjon og ultra-dobbelt-differensialfil med bred bølgelengde, sammensatt av nanopartikler, hule nanosfærer og nanoskiver på glasssubstrat. Selv om vitenskapelige forskere har tatt ulike tiltak for å konstruere antirefleksfilmer med selvrensende egenskaper, er det meste av forskningsvitenskapen begrenset til laboratoriet og ikke egnet for storskala produksjon. Derfor, for de faktiske Det er fortsatt store muligheter og utfordringer i produksjon og bruk: først er mekanisiteten dårlig; For det andre er kostnadene høye og skalaen er liten. De fleste av prosessprosessene med selvrensende egenskaper som rapporteres i dag innebærer komplekse prosesser, vanskeligere preparatmiljøer, dyre reagenser og utstyr, etc., er kostbare, og er bare egnet for mindre underlag eller spesifikke substratmaterialer. , skalaen er liten.
Utviklingen av selvrensende antirefleksfilm. Slike begrensede holdbarhet og høye kostnader kan hindre anvendelsen og utviklingen av slike antireflekterende filmer med selvrensende egenskaper. I fremtiden vil følgende forskningsretningslinjer tiltrekke seg flere forskeres oppmerksomhet: 1Du bruker nåværende avanserte analytiske verktøy og verktøy og teoretiske beregningsnivåer, avslører mer utforskning forholdet mellom filmkomposisjon, struktur, overflateegenskaper og filmmekanisme. Konstruksjon; 2 konstruksjon av høy styrke og slitesterk selvrensende refleksjonsfilm overflate struktur er fortsatt fokus for forskningsarbeid, selvfølgelig skal også miljøfaktorer tas i betraktning; 3 nye materialer og avanserte beleggteknologi kan også utvide bruken av selvrensende antirefleksfilm.
